磁场拉晶技术(磁场拉晶技术的优缺点)

磁场拉晶技术

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现有的直拉法拉晶技术存在两种对流形式，即自然对流和强迫对流。自然对流是由温度梯度造成，而强迫对流由拉晶时设定的晶转、埚转及熔体的粘滞性造成。一般情况下，强迫对流在拉晶中相对稳定；理想情况下，自然对流和强迫对流是趋向稳定的关系（临界状态）。但在实际情况中。自然对流的影响会逐渐加强，破坏这种理想的临界状态，造成了晶体生长液面的温度震荡，导致杂质在晶体界面的微分凝，造成晶体的光学性质，电学性质的不均匀性。

　　为了抑制这种现象，就要降低温度梯度的影响，一般的措施有：1.容器的纵横比，即考虑好坩埚的形状和尺寸。

　　2.在失重情况下生长。

　　3.双坩埚法，挡板法等。即在坩埚内加入其它装置来减少自然对流。

　　4.增加强迫对流，来控制自然对流，如磁场拉晶法。

　　磁场拉晶技术简介：

　　在现行的直拉炉中增加磁场装置。由于熔体本身导电，导电的流体在磁场中运动，流体的电流微元穿过磁力线，产生作用于其上的安培力，该力的方向同电流微元的运动方向相反，因此可以阻滞流体的热对流，提高晶体性能和均匀性。